Couches minces : généralités
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- Durée : 4 Jours
- Type : En centre
- Diplôme : Autre
- Prix : 1650.00 €
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Objectifs
Ce stage est destiné aux techniciens, ingénieurs ou chercheurs qui souhaitent approfondir leurs connaissances dans ce domaine. Il a pour objectif de permettre aux participants de comprendre les mécanismes de croissance et les phénomènes physiques associés à l'élaboration des films minces.
Chapitres :
- Présentation comparative des différentes techniques de croissance sous vide de films minces (pulvérisation, évaporation, CVD)
- Rappels concernant la théorie cinétique des gaz : notion de pression, distribution de type Maxwell-Boltzmann, libre parcours moyen, flux de particules sur une surface
- Intéraction ions-surface : ralentissement des ions dans un solide, cascade de collisions, collision binaire, notion de taux de pulvérisation, énergie seuil de pulvérisation
- Notions sur les plasmas de décharge basse pression : définitions, grandeurs, interface plasma-paroi, les différents types de décharge, caractérisation d'un plasma
- Mécanismes de croissance : description des différents modes de croissance et exemples de structuration
- Systèmes de contrôle en temps réel : description des différentes techniques d'analyse du procédé
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