La lithographie optique et électronique
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- Durée : 18 Heures
- Type : En centre
- Diplôme : Autre
- Prix : 1200.00 €
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Objectifs
Ce stage de deux jours et demi s'adresse aux techniciens et ingénieurs du milieu industriel et académique qui sont amenés à développer des procédés de lithographies optique et électronique.
Cette formation comporte des cours théoriques et des travaux pratiques mettant en ouvre des procédés de lithographie optique et électronique pour la réalisation de micro et nano-objets. Elle donne les bases théoriques et expérimentales indispensables à la mise en ouvre de ce genre de procédés dans un environnement salle blanche. Cette formation abordera aussi les aspects de dépôt par évaporation spécifique à la lithographie électronique.
Chapitres :
- Lithographie optique : principe, configurations, procédé, applications
- Lithographie électronique : principe, procédé, applications
- Nano-impression : principe, configurations, applications
- FIB (Focused Ions Beam) : principe, applications
Travaux pratiques :
- Lithographie optique : spin coating, lithographie, dépôt, gravure, lift-off
- lithographie électronique : dessin des masques, écriture par faisceau d'électrons, dépôt par évaporation, lift-off, caractérisation
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