PVD - Magnétron - Evaporation - MBE
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- Durée : 18 Heures
- Type : En centre
- Diplôme : N.C.
- Prix : 950.00 €
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Objectifs
Ce stage de deux jours et demi s'adresse aux techniciens et ingénieurs du milieu industriel et académique qui ont à mettre en œuvre des procédés de dépôt sous vide.
Cette formation donne les bases indispensables à une bonne compréhension des différents processus conduisant à la formation de films minces et vise à donner l'essentiel des connaissances nécessaires à la mise en œuvre des différents procédés de dépôts physique.
Chapitres :
- Les processus physiques, thermiques, sputtering, différents types de dépôts (corps simples et dépôts réactifs), scénario de croissance : de l'adsorption à la formation du film
- Evaporation thermique, bombardement électronique
- Procédés assistés par plasma
- PVD (incluant PVD simple, réactive, magnétron)
- Procédés assistés faisceaux d'ions
- IBAD, Ion Plating
- PLD
- Epitaxie par jet moléculaire
Travaux pratiques :
- Réalisation de dépôt par évaporation
- PVD magnétron réactive en salle blanche
- Epitaxie par jet moléculaire
Nombre de participants limité (manip. en salle blanche)
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